东京电子开铡泄密案员工，台积电2纳米机密保卫战升级

   东京电子今日正式宣布，已开除涉入台积电2纳米制程技术泄密案的台湾子公司员工，并强调将全力配合司法调查。这一决定标志着半导体史上最敏感的营业秘密外泄案进入跨国追责新阶段。

   据内部调查显示，该名遭解雇的工程师原为台积电资深技术骨干，2022年底被东京电子高薪挖角后，仍持续接触台积电内部人员。知情人士透露，其通过居家办公漏洞登录系统，在3分钟内精准拍摄上千张含反光的屏幕照片，并选择在竹科星巴克进行线下交付，最终被监控系统锁定异常访问轨迹而落网。

   这起技术泄密事件直指半导体产业最前沿的2纳米战场。该技术采用全新GAA晶体管架构，耗资超百亿美元研发，能使芯片性能提升15%、功耗降低30%，原计划于今年底量产。业界评估若核心参数外流，竞争对手研发周期可缩短2-3年，足以撼动全球晶圆代工格局。

   值得注意的是，东京电子不仅是全球第四大半导体设备商，更是日本2纳米国家队Rapidus的重要股东。此次涉案工程师掌握的等离子蚀刻技术，恰是东京电子垄断市场的关键设备所需，而该设备正与阿斯麦High-NAEUV光刻机配套用于先进制程。

   尽管东京电子声明未发现资料流向第三方，但技术安全专家指出，涉案人员通过原始的手机翻拍方式传递资料，恰恰规避了数字水印追踪，显示商业间谍手段正在进化。更令人忧心的是，九名涉案工程师中多数拥有顶尖学府硕士学历，其中试产线人员甚至利用夜班监管空隙进行拍摄，暴露物理隔离与数字权限的双重漏洞。

   随着台积电启动跨国诉讼，这场纠纷已超越企业层面。法律界关注本案可能援引的营业秘密法最高量刑——若证实存在组织性窃密，主犯恐面临无期徒刑。而更深层的产业博弈在于，当全球仅剩四家企业角逐2纳米制程时，技术保护将重新定义竞争边界。

   台积电内部紧急升级监控机制，在技术管制区部署AI行为分析系统，实时侦测非常规数据访问。但根本难题在于：当百亿美元研发成果可能毁于一部智能手机，半导体巨擘们必须在开放创新与铁壁防护间找到新平衡点。